成都西野供應(yīng)日本日立HITACHI半導(dǎo)體蝕刻系統(tǒng)9000系列
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產(chǎn)品名稱: 成都西野供應(yīng)日本日立HITACHI半導(dǎo)體蝕刻系統(tǒng)9000系列
產(chǎn)品型號(hào): 9000系列
產(chǎn)品展商: 日本日立HITACHI
產(chǎn)品文檔: 無相關(guān)文檔
簡單介紹
成都西野供應(yīng)日本日立HITACHI半導(dǎo)體蝕刻系統(tǒng)9000系列
20納米世代后的裝置對(duì)精度和工藝要求非常高，如雙重圖案和3D構(gòu)造，以及針對(duì)新材料相對(duì)應(yīng)的高精密度復(fù)雜制程要求，包含后道處理和形成保護(hù)膜等。為了對(duì)應(yīng)這類下一代器件工藝，半導(dǎo)體蝕刻裝置9000系列統(tǒng)一了接口并且能夠搭載高精度模塊化的各種腔室，從而實(shí)現(xiàn)了對(duì)應(yīng)***器件的擴(kuò)展性和柔軟性的工藝。
成都西野供應(yīng)日本日立HITACHI半導(dǎo)體蝕刻系統(tǒng)9000系列
成都西野供應(yīng)日本日立HITACHI半導(dǎo)體蝕刻系統(tǒng)9000系列
的詳細(xì)介紹
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新的9000系列的串接式平臺(tái)，其模組腔室設(shè)計(jì)，可以提供制程使用的彈性以及未來的擴(kuò)充性。
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有助于順利過渡到未來450mm晶圓用設(shè)備的平臺(tái)和用戶界面標(biāo)準(zhǔn)化整合。
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9000系列平臺(tái)采用了日立成熟的微波ECR（Electron Cyclotron Resonance）等離子體蝕刻腔室，已經(jīng)過大批量生產(chǎn)的考驗(yàn)。
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應(yīng)用晶圓直徑
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300mm
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裝置構(gòu)成
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9 chambers (max.)
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部分規(guī)格會(huì)與照片不一樣。
