成都西野供應日本日立HITACHI高解析度FEB測量裝置CG6300（HITACHI CD-SEM）
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產(chǎn)品名稱: 成都西野供應日本日立HITACHI高解析度FEB測量裝置CG6300（HITACHI CD-SEM）
產(chǎn)品型號: CG6300
產(chǎn)品展商: 日本日立HITACHI
產(chǎn)品文檔: 無相關文檔
簡單介紹
成都西野供應日本日立HITACHI高解析度FEB測量裝置CG6300（HITACHI CD-SEM）
高解析度FEB測量裝置（CD-SEM）CG6300通過電子光學系統(tǒng)的全新設計提高了解析度，并進一步提高了測量可重復性和圖像畫質。
電子顯微鏡線圈能夠選擇從對象材料反射出的二次電子和背向散射電子，實現(xiàn)BEOL制程*1的Via-in-trench*2和3D-NAND、DRAM工程中的深溝槽?洞底的尺寸測量。
成都西野供應日本日立HITACHI高解析度FEB測量裝置CG6300（HITACHI CD-SEM）
成都西野供應日本日立HITACHI高解析度FEB測量裝置CG6300（HITACHI CD-SEM）
的詳細介紹
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高解析度能夠高精度測量7 nm generation devices
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提高深槽·孔的尺寸測量和材料對比度的可視性
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通過選擇性能強化二次電子和被背向散射電子信號來提高對比度成像
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包括高速掃描在內的多種掃描方式取得減少帶電的清晰圖像
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搭載新設計的高速芯片載臺搬送系統(tǒng)
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晶圓尺寸
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Φ300 mm （SEMI 標準規(guī)格 V notched wafer）
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自動裝片
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3 FOUP*4 -compatible random access
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電源
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單相AC200V、208V、230V、12kVA（50/60Hz）
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*4
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FOUP（Front-Opening Unified Pod）：半導體工廠的制式正面開口式cassette 一體型搬送、保管箱
